超精密抛光技术：
针对深紫外（DUV）激光器、超高功率激光系统及环形激光陀螺仪等高要求应用，反射镜的高反射率与低散射特性至关重要；要实现这些严苛的性能指标，必须使用具备极低微观粗糙度的基底材料。
超精密抛光技术是制造光学应用所需超光滑反射镜基底的常用工艺。杭州Shalom EO通过改良传统超精密抛光工艺，开发出了一套高效可靠的生产技术；该技术能够在大规模生产中实现表面粗糙度低于1Å（埃）的光学基底或反射镜，并确保快速交付。我们的质检部门配备了原子力显微镜（AFM）和Zygo干涉仪，执行严格且标准化的质量控制流程。我们提供多种材质的超精密抛光基底与反射镜，涵盖BK7、紫外级熔融石英、微晶玻璃（Zerodur）、ZnSe、ZnS、Ge、Si、CaF2、MgF2及蓝宝石等材料，同时也提供环形激光陀螺仪专用反射镜。
独特的传统抛光工艺：
尽管磁流变（MR）流体抛光技术（即在计算机控制的磁流变抛光液中对光学表面进行抛光）在制造极低粗糙度光学元件方面极具潜力，但其高昂的成本和低效的生产率使其难以在工业生产中广泛应用。因此，目前大多数超精密抛光光学元件仍采用传统抛光工艺制造。Shalom EO 开发了一种针对传统抛光技术的独特改进工艺，专门用于生产超精密抛光反射镜及其基底。凭借这一先进的抛光技术，Shalom EO 能够制造出表面粗糙度小于 1Å、中心区域达到 0/0 级（无划痕/无麻点）外观质量以及具备卓越反射性能的超精密抛光反射镜及基底。下图展示了利用原子力显微镜（AFM）和 Zygo 干涉仪获得的检测结果：
检测结果：
1. 原子力显微镜检测
图1. 利用原子力显微镜（AFM）测得的超抛光表面粗糙度 （直径200mm的熔融石英基底，Ra=0.28nm）
2. Zygo干涉仪检测
使用Zygo干涉仪测量超抛光表面的平整度
（熔融石英基片，直径300mm，PV=0.101，波长633nm）
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